[불교공뉴스-청주시] 청주 미술창작 스튜디오에서는 제7기 입주작가 아티스트 릴레이 전시를 개최한다.
이번 전시는 이유나⋅오헬리앙 뒤센(프)작가의 전시로 7기 입주작가의 20번째 마지막
아티스트릴레이전을 개최한다.
이번 전시는 이유나(Youna Lee)와 프랑스 작가인 오헬리앙 뒤센(Aurélien Duchesne)의 콜라보레이션 Loop Around 는 영상과 오브제설치를 기반으로 스튜디오 전시실 전관에서 전개된다.

전시 주제인 Loop Around 는 주변에 버려진 것들이나 놓여져있는 것들에 대한 관심으로 시작된다.

Loop는 고리, 띠, 연속반복 이라는 의미에 Around 주변, 주위 라는 의미가 더해져 이것은 두 작가가 주변에 버려진 파편들을 주어 모았던 동선을 담고 있기도 하고 모든것이 고리처럼 연결되어 반복되는 형체와 움직임을 나타내고 있다.
전시에 소개될 오브제들은 간단한 물체 다루기 즉 변형과 조합, 겹치기, 균형의 유지를 통하여 주어 모은 파편들을 재구성하여 공간안에서 설치라는 형태로 재배치되어 나타난다.

그와 함께 나타날 영상은 시나리오 없이 전개되는 물체의 반복된 움직음을 담고 있으며 드라마틱한 요소의 부재로 시간의 흐름안의 시작과 끝이 불분명하다. 이로 인하여 이번 영상들은 공간안의 단순한 표시로 그리고 오브제로서 작용하고 있다.

전시 Loop Around 는 작업 하나하나를 마주하기보다 공간안에 하나의 설치로서 나타나는 오브제와 영상 그리고 공간사이의 관계에 대한 집중을 보여준다.

이번 전시는 2014년 3월 6일부터 3월16일까지 선보이며, 6일에는 오픈식과 함께 작가와의 대화를 진행하여 관람객들에게 전시에 대한 이해와 소통의 시간을 가질 계획이다.